| 气相沉积薄膜材料的现状和展望 | |
| 闻立时 | |
| 1986-11-14 | |
| 会议名称 | 中国金属学会第一届中国材料科学研讨会 |
| 会议日期 | 1986-11-14 |
| 会议地点 | 重庆 |
| 关键词 | 薄膜 气相沉积 涂层 磁记录材料 |
| 会议主办者 | 中国金属学会 |
| 会议录 | 第一届中国材料科学研讨会学术论文摘要汇编
 |
| 语种 | 中文 |
| 内容类型 | 会议论文 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/69367]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 闻立时. 气相沉积薄膜材料的现状和展望[C]. 见:中国金属学会第一届中国材料科学研讨会. 重庆. 1986-11-14. |
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