光変調器、短光パルス発生装置、光波形整形装置および光デマルチプレクサ装置 | |
鈴木 正敏; 枝川 登; 森田 逸郎; 山本 周; 秋葉 重幸 | |
1997-12-16 | |
著作权人 | KOKUSAI DENSHIN DENWA CO LTD |
专利号 | JP1997325308A |
国家 | 日本 |
文献子类 | 发明申请 |
其他题名 | 光変調器、短光パルス発生装置、光波形整形装置および光デマルチプレクサ装置 |
英文摘要 | 【課題】 電気吸収型光変調器の偏光依存ロスをなくす。 【解決手段】 入射光1は光サーキュレータ2、レンズ3を介して電気吸収型光変調器4に入力され、変調信号8に応じた強度変調を受ける。電気吸収型光変調器4から出力された光信号はレンズ5を介してファラディ回転子6に入力され、その45゜偏光面が回転される。ファラディ回転子6を通過した光信号は全反射ミラー7により全反射されて再びファラディ回転子6に入力され、ここでさらに45゜偏光面が回転されてレンズ5を通り、電気吸収型光変調器4に再入射される。電気吸収型光変調器4の出力はレンズ3、光サーキュレータ2を介して出射される。入射光1がどのような偏光面をしていても、偏光面が90゜回転されて電気吸収型光変調器4に再入射されるので、挿入損失の偏光依存性を無くすことができる。この光変調器を利用して、高性能の短光パルス発生装置、光波形再生装置および光デマルチプレクサを構成することができる。 |
公开日期 | 1997-12-16 |
申请日期 | 1996-06-06 |
状态 | 失效 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/56292] |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | KOKUSAI DENSHIN DENWA CO LTD |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 鈴木 正敏,枝川 登,森田 逸郎,等. 光変調器、短光パルス発生装置、光波形整形装置および光デマルチプレクサ装置. JP1997325308A. 1997-12-16. |
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