一种GaN基垂直腔面发射激光器及其制备方法
张宇; 魏斌
2019-06-11
著作权人山东大学
专利号CN109873297A
国家中国
文献子类发明申请
其他题名一种GaN基垂直腔面发射激光器及其制备方法
英文摘要本发明涉及一种GaN基垂直腔面发射激光器及其制备方法,属于光电子领域,包括导电衬底,导电衬底上制作有金属层,金属层上窗口处制作有介质DBR层,介质DBR层上制作有透明导电层,透明导电层上依次制作有p型半导体层、多量子阱有源层和n型半导体层,n型半导体层上表面生长制备有多孔导电DBR层,多孔导电DBR层上表面制作有绝缘介质层,绝缘介质层覆盖多孔导电DBR层、n型半导体层、多量子阱有源层、p型半导体层以及透明导电层,绝缘介质层上表面制作有n电极。本发明通过金属键合技术将外延结构转移到导电性较好的衬底上,并采用电化学腐蚀形成多孔GaN导电DBR结构,增加器件可工作的电流密度,提高光电性能。
公开日期2019-06-11
申请日期2019-04-26
状态申请中
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55291]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位山东大学
推荐引用方式
GB/T 7714
张宇,魏斌. 一种GaN基垂直腔面发射激光器及其制备方法. CN109873297A. 2019-06-11.
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