同时降低发散角和阈值电流的激光器的制备方法
李翔; 赵德刚; 江德生; 刘宗顺; 陈平; 朱建军
2018-01-02
著作权人中国科学院半导体研究所
专利号CN104300365B
国家中国
文献子类授权发明
其他题名同时降低发散角和阈值电流的激光器的制备方法
英文摘要一种同时降低发散角和阈值电流的激光器的制备方法,包括以下步骤:步骤1:在砷化镓衬底上依次制作n型限制层、n型低折射率插入层、n型波导层、量子阱有源区、p型波导层、p型低折射率插入层、p型限制层和p型接触层;步骤2:将P型接触层和P型限制层湿法腐蚀或干法刻蚀成脊型;步骤3:在刻蚀成脊型上生长一层氧化模,并采用光刻的方法在p型接触层的上表面制作p型欧姆电极;步骤4:将砷化镓衬底减薄、清洗,并在砷化镓衬底的背面制作n型欧姆电极,形成激光器;步骤5:进行解理,在激光器的腔面镀膜,最后封装在管壳上,完成制备。本发明可以提高激光器激射的单模特性,提高光束质量。
公开日期2018-01-02
申请日期2014-10-21
状态授权
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/49259]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
李翔,赵德刚,江德生,等. 同时降低发散角和阈值电流的激光器的制备方法. CN104300365B. 2018-01-02.
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