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	在连续纤维丝/条带表面高速均匀沉积薄膜的装置和方法
	雷浩, 肖金泉, 宫骏 and 孙超
	2012-07-04
专利国别	中国
专利类型	发明专利
权利人	中国科学院金属研究所
中文摘要	本发明属于薄膜制备领域,具体地说是一种在连续纤维丝/条带表面高速均匀沉积金属/化合物薄膜的装置和方法,解决了在纤维丝/条带表面高速均匀沉积薄膜的问题。该装置由两组四面矩形或正方形非平衡态磁控靶材和两个相同的带孔遮蔽板组成的真空封闭长方体或立方体连接两个张力可控的卷绕工件转架于内的真空腔体组成。非平衡态磁控溅射靶由中频脉冲/直流电源驱动,并在封闭的长方体或立方体内产生高密度等离子体,连续纤维丝/条带直接从高密度等离子体中穿过,等离子体均匀地环绕在纤维丝/条带的周围,整个纤维丝/条带的表面同时被均匀地沉积上纳米薄膜。本发明可实现在纤维丝/条带材料上的高速均匀地镀膜,拓展了磁控溅射镀膜的应用范围。
公开日期	2012-07-04
语种	中文
专利申请号	CN102534535A
内容类型	专利
源URL	[http://210.72.142.130/handle/321006/67970]
专题	金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	雷浩, 肖金泉, 宫骏 and 孙超. 在连续纤维丝/条带表面高速均匀沉积薄膜的装置和方法. 2012-07-04.

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