提高非晶硅薄膜太阳能电池开路电压的方法 | |
石明吉 ; 曾湘波 ; 张长沙 ; 刘石勇 ; 彭文博 ; 肖海波 | |
2010-08-12 | |
专利国别 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
权利人 | 中国科学院半导体研究所 |
中文摘要 | 本发明公开了一种提高非晶硅薄膜太阳能电池开路电压的方法,该方法包括:在不透明衬底上,采用等离子体辅助化学气相沉积技术依次生长N型层、本征层和P型层,其中,P型层又分为P层和P+层;在生长P层时,将P层的生长时间延长t秒,在P层生长完毕后,保持氢气流量、温度和辉光功率不变,采用氢等离子体刻蚀方法对P层刻蚀t秒,接着生长P+层;电池从反应室取出后,用磁控溅射生长ITO透明电极。利用本发明,处理过程简便易行,既能够有效提高非晶硅薄膜太阳能电池的开路电压,得到大面积高开压的非晶硅薄膜太阳能电池,同时又具有成本低,可规模化生产的优点。 |
英文摘要 | 本发明公开了一种提高非晶硅薄膜太阳能电池开路电压的方法,该方法包括:在不透明衬底上,采用等离子体辅助化学气相沉积技术依次生长N型层、本征层和P型层,其中,P型层又分为P层和P+层;在生长P层时,将P层的生长时间延长t秒,在P层生长完毕后,保持氢气流量、温度和辉光功率不变,采用氢等离子体刻蚀方法对P层刻蚀t秒,接着生长P+层;电池从反应室取出后,用磁控溅射生长ITO透明电极。利用本发明,处理过程简便易行,既能够有效提高非晶硅薄膜太阳能电池的开路电压,得到大面积高开压的非晶硅薄膜太阳能电池,同时又具有成本低,可规模化生产的优点。; 于AD批量导入至AEzhangdi; Made available in DSpace on 2010-08-12T05:13:42Z (GMT). No. of bitstreams: 1 3558.pdf: 595066 bytes, checksum: 07af082e64d33a4a4578f2947634d09e (MD5) |
公开日期 | 2010-02-24 ; 2010-08-12 ; 2010-10-15 |
申请日期 | 2008-08-20 |
语种 | 中文 |
专利申请号 | CN200810118736.3 |
专利代理 | 周国城:中科专利商标代理有限责任公司 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/13384] |
专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 石明吉,曾湘波,张长沙,等. 提高非晶硅薄膜太阳能电池开路电压的方法. 2010-08-12. |
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