生长氧化物薄膜的金属有机物化学气相沉积反应室结构
丛光伟 ; 刘祥林 ; 董向芸 ; 魏宏源 ; 王占国
2006-09-13
专利类型发明
英文摘要Submitted by zhangdi (zhangdi@red.semi.ac.cn) on 2009-06-04T08:36:34Z No. of bitstreams: 1 dspace.cfg: 33388 bytes, checksum: ac9630d3fdb36a155287a049e8b34eb7 (MD5); Made available in DSpace on 2009-06-04T08:36:35Z (GMT). No. of bitstreams: 1 dspace.cfg: 33388 bytes, checksum: ac9630d3fdb36a155287a049e8b34eb7 (MD5) Previous issue date: 2008-08; Made available in DSpace on 2009-06-11T08:57:49Z (GMT). No. of bitstreams: 1 full/200510054173.pdf: 866765 bytes, checksum: e59ede8a0bf3148001d4062a609c258f (MD5) Previous issue date:
公开日期2009-06-04 ; 2009-06-11 ; 2010-10-15
申请日期2005-03-09
语种中文
专利申请号200510054173
内容类型专利
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/3363]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
丛光伟,刘祥林,董向芸,等. 生长氧化物薄膜的金属有机物化学气相沉积反应室结构. 2006-09-13.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace