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MOCVD生长GaAsP/InGa(Al)P/GaAs大功率808nm张应变量子阱激光器材料
蒋锴; 李沛旭; 张新; 李树强; 夏伟; 汤庆敏; 胡小波; 徐现刚
刊名人工晶体学报
2012
期号S1页码:285-288
关键词量子阱激光器 张应变 非对称结构 金属有机物化学气相沉积
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内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5204507
专题山东大学
作者单位1.山东大学晶体材料国家重点实验室
2.山东华光光电子有限
推荐引用方式
GB/T 7714
蒋锴,李沛旭,张新,等. MOCVD生长GaAsP/InGa(Al)P/GaAs大功率808nm张应变量子阱激光器材料[J]. 人工晶体学报,2012(S1):285-288.
APA 蒋锴.,李沛旭.,张新.,李树强.,夏伟.,...&徐现刚.(2012).MOCVD生长GaAsP/InGa(Al)P/GaAs大功率808nm张应变量子阱激光器材料.人工晶体学报(S1),285-288.
MLA 蒋锴,et al."MOCVD生长GaAsP/InGa(Al)P/GaAs大功率808nm张应变量子阱激光器材料".人工晶体学报 .S1(2012):285-288.
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