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	Abnormal diffusion behaviors of Cu atoms in van der Waals layered material MoS2
	Zhang, CX; Li, QZ; Tang, LM; Yang, KK; Xiao, J; Chen, KQ; Deng, HX
刊名	JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C
	2019
卷号	Vol.7 No.20页码:6052-6058
ISSN号	2050-7526;2050-7534
URL标识	查看原文
公开日期	[db:dc_date_available]
内容类型	期刊论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4749467
专题	湖南大学
作者单位	1.Hunan Univ, Sch Phys & Elect, Dept Appl Phys, Changsha 410082, Hunan, Peoples R China 2.Chinese Acad Sci, Inst Semicond, State Key Lab Superlattices & Microstruct, POB 912, Beijing 100083, Peoples R China
推荐引用方式 GB/T 7714	Zhang, CX,Li, QZ,Tang, LM,et al. Abnormal diffusion behaviors of Cu atoms in van der Waals layered material MoS2[J]. JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C,2019,Vol.7 No.20:6052-6058.
APA	Zhang, CX.,Li, QZ.,Tang, LM.,Yang, KK.,Xiao, J.,...&Deng, HX.(2019).Abnormal diffusion behaviors of Cu atoms in van der Waals layered material MoS2.JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C,Vol.7 No.20,6052-6058.
MLA	Zhang, CX,et al."Abnormal diffusion behaviors of Cu atoms in van der Waals layered material MoS2".JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C Vol.7 No.20(2019):6052-6058.

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