荧光寿命成像技术及其研究进展

	荧光寿命成像技术及其研究进展
	刘超; 王新伟; 王新伟; 刘超
刊名	激光与光电子学进展
	2011
卷号	48 期号:11 页码:111102-1-111102-6
中文摘要	荧光寿命显微成像（FLIM）技术是一种新颖的荧光成像技术，具有其他荧光成像方法无法替代的优异性能，是生物医学工程领域的研究热点。频域调制、门控探测和时间相关单光子计数（TCSPC）是FLIM的几种主要实现方法。综述了这些技术的原理、研究现状和已取得的部分成果，比较了这三种方法的时间分辨率和成像速度等参数的优劣。宽场FLIM更适用于延时成像和实时成像。荧光偏振各相异性成像和内窥镜FLIM技术都是FLIM技术很有前景的应用方向。
学科主题	光电子学
收录类别	CSCD
资助信息	基金
语种	中文
公开日期	2012-07-17
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/23262]
专题	半导体研究所_光电系统实验室
推荐引用方式 GB/T 7714	刘超,王新伟,王新伟,等. 荧光寿命成像技术及其研究进展[J]. 激光与光电子学进展,2011,48(11):111102-1-111102-6.
APA	刘超,王新伟,王新伟,&刘超.(2011).荧光寿命成像技术及其研究进展.激光与光电子学进展,48(11),111102-1-111102-6.
MLA	刘超,et al."荧光寿命成像技术及其研究进展".激光与光电子学进展 48.11(2011):111102-1-111102-6.