X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) of carbon nitride (CN) films | |
Mo, Shaobo; Liu, Ying; Yang, Yezhi; Cheng, Yuhang | |
刊名 | 光谱学与光谱分析
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1999 | |
卷号 | 19期号:5 |
ISSN号 | 1000-0593 |
URL标识 | 查看原文 |
收录类别 | EI |
语种 | 中文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4219326 |
专题 | 武汉大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Mo, Shaobo,Liu, Ying,Yang, Yezhi,et al. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) of carbon nitride (CN) films[J]. 光谱学与光谱分析,1999,19(5). |
APA | Mo, Shaobo,Liu, Ying,Yang, Yezhi,&Cheng, Yuhang.(1999).X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) of carbon nitride (CN) films.光谱学与光谱分析,19(5). |
MLA | Mo, Shaobo,et al."X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) of carbon nitride (CN) films".光谱学与光谱分析 19.5(1999). |
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