低能离子溅射引起表面损伤的研究
周祖尧 ; 任琮欣 ; 陈国明 ; 胡嘉增 ; 杨洁 ; 傅新定 ; 邹世昌 ; 朱德彰 ; 曹德新
刊名核技术
1986
期号07
ISSN号0253-3219
中文摘要本文应用背散射沟道技术研究了低能离子轰击不同晶向表面所引起的晶格损伤与离子能量、剂量的关系,讨论了损伤形成的动力学过程。
公开日期2012-03-29
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/105685]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文(冶金所)
推荐引用方式
GB/T 7714
周祖尧,任琮欣,陈国明,等. 低能离子溅射引起表面损伤的研究[J]. 核技术,1986(07).
APA 周祖尧.,任琮欣.,陈国明.,胡嘉增.,杨洁.,...&曹德新.(1986).低能离子溅射引起表面损伤的研究.核技术(07).
MLA 周祖尧,et al."低能离子溅射引起表面损伤的研究".核技术 .07(1986).
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