题名太赫兹量子级联激光器的材料生长与表征
作者常俊
学位类别硕士
答辩日期2009-04-09
授予单位中国科学院上海微系统与信息技术研究所
授予地点上海微系统与信息技术研究所
导师曹俊诚
关键词太赫兹 量子级联激光器 分子束外延 I-V特性 电极接触
其他题名GSMBE-growth and characterization of terahertz quantum-cascade laser
学位专业微电子学与固体电子学
中文摘要太赫兹 (THz) 技术是近年来一个十分热门的领域,其中,THz辐射源是THz技术应用的关键器件。THz量子级联激光器 (QCL) 是一种全固态、相干的THz辐射源,具有能量转换效率高、体积小、轻便和易集成等优点。本论文主要研究了AlGaAs/GaAs基THz QCL有源区的分子束外延 (MBE) 材料生长与表征、器件制备工艺及其电流-电压(I-V)特性分析,研究了THz QCL电极接触的制作工艺等。本论文的主要研究结果如下: 1. 采用气态源分子束外延 (GSMBE) 方法生长了束缚态到连续态跃迁THz QCL有源区结构,并且采用电化学CV仪、霍尔测试仪以及高分辨X射线衍射对材料的质量进行了表征。结果表明,GaAs速率的偏移是引起厚度偏差的主要原因,因此精确控制GaAs速率是生长高质量THz QCL有源区的重要条件。 2. 采用THz QCL光电测试系统测试了单面金属波导THz QCL器件的IV特性,热沉温度范围在10~150 K之间。同时,采用蒙特卡洛方法模拟了共振声子THz QCL器件的I-V曲线,分析了在不同偏压下子能级的对齐状况和电子的输运特征。结果表明,注入能级和下激光能级对准是共振声子THz QCL器件中最重要的寄生电流机制。 3. 针对双面金属波导THz QCL中的金-金键合工艺,研究了Ti/Au与n型GaAs衬底的电极接触工艺,并且讨论了退火对THz QCL电极接触性能的影响。实验结果表明,与无退火样品相比,在400℃退火之后,电极接触性能退化。
语种中文
公开日期2012-03-06
页码67
内容类型学位论文
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/83460]  
专题上海微系统与信息技术研究所_微系统、冶金所学位论文_学位论文
推荐引用方式
GB/T 7714
常俊. 太赫兹量子级联激光器的材料生长与表征[D]. 上海微系统与信息技术研究所. 中国科学院上海微系统与信息技术研究所. 2009.
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