一种PDMS微流控芯片中通孔结构的制作方法
李刚 ; 陈强 ; 李俊君 ; 赵建龙
2009-11-25
专利国别中国
专利号CN101585507
专利类型发明
权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
中文摘要本发明公开了一种PDMS微流控芯片中通孔结构的制作方法,其特征在 于利用磁性力的辅助,将微柱或微管固定于芯片模具上拟制作通孔结构的位 置,然后通过整体浇注PDMS预聚物,并固化键合,制作出具有高深宽比通 孔结构的PDMS微流控芯片。本发明提供的微流控芯片成形与通孔制作一次 完成,简化了微流控芯片制作工艺,而且通过微柱或微管与芯片模具固定, 实施整体浇注,提高了通孔制作的精确度,保证了通孔形状的规整性,避免 了形成通孔孔形不规则、损坏微管道结构等问题。另外,微磁柱排布利用预 制模具镶嵌固定,还可以提高通孔制
是否PCT专利
公开日期2009-11-25
申请日期2009-06-23
语种中文
专利申请号200910053593.7
专利代理潘振甦
内容类型专利
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/49113]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利
推荐引用方式
GB/T 7714
李刚,陈强,李俊君,等. 一种PDMS微流控芯片中通孔结构的制作方法. CN101585507. 2009-11-25.
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