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	MG/AL 水滑石吸附去除水中痕量邻苯二甲酸酯
	王龙[1]; 高旭[1]; 郭劲松[1]; 杜蓉[1]; 余仲勋[1]
会议日期	2010年5月1日
会议地点	南京
URL标识	查看原文
内容类型	会议论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/3130501
专题	重庆大学
推荐引用方式 GB/T 7714	王龙[1],高旭[1],郭劲松[1],等. MG/AL 水滑石吸附去除水中痕量邻苯二甲酸酯[C]. 见:. 南京. 2010年5月1日.

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