FinFETs on Insulator with Silicided Source/Drain
Zhu HL(朱慧珑); Zhao C(赵超); Yin HX(殷华湘); Zhong HC(钟汇才); Zhang QZ(张青竹); Luo J(罗军)
2017-10-16
文献子类会议论文
内容类型会议论文
源URL[http://159.226.55.106/handle/172511/18278]  
专题微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
Zhu HL,Zhao C,Yin HX,et al. FinFETs on Insulator with Silicided Source/Drain[C]. 见:.
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