New alignment mark design structures for higher diffraction order wafer quality enhancement

	New alignment mark design structures for higher diffraction order wafer quality enhancement
	Wei YY(韦亚一); Zhang LB(张利斌); Dong LS(董立松); Su XJ(苏晓菁); Ye TC(叶甜春)
	2017-03-28
文献子类	会议论文
语种	英语
内容类型	会议论文
源URL	[http://159.226.55.106/handle/172511/18271]
专题	微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心
作者单位	中国科学院微电子研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	Wei YY,Zhang LB,Dong LS,et al. New alignment mark design structures for higher diffraction order wafer quality enhancement[C]. 见:.