在厚负性高分辨率电子束抗蚀剂HSQ上制作密集图形的方法 | |
陈宝钦; 刘明; 赵珉; 朱效立 | |
2012-03-21 | |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
专利号 | CN200810116381.4 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明涉及纳米加工技术领域,公开了一种在厚负性高分辨率电子束 抗蚀剂HSQ上制作密集图形的方法,包括:A.对衬底进行表面清洁及热 处理;B.在衬底上涂敷负性高分辨率电子束抗蚀剂HSQ厚胶层;C.对 涂敷了HSQ厚胶层的衬底进行前烘;D.对HSQ厚胶层进行密集图形的 电子束直写曝光;E.显影的准备工作及实施显影;F.定影及干燥;G. 进行后续的图形转移工艺。利用本发明,抑制了背散射效应对低灵敏度负 性抗电子束蚀剂层上制作密集图形时尤为严重的邻近效应的影响,并且避 免由于抗蚀剂层应力、缺陷,以及显影气泡等因素造成的光刻图形漂移或 倒塌的现象,使得利用负性高分辨率电子束抗蚀剂HSQ制作密集图形的 厚胶工艺实用化。 |
公开日期 | 2010-01-13 |
申请日期 | 2008-07-09 |
语种 | 中文 |
内容类型 | 专利 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/7516] |
专题 | 微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年) |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈宝钦,刘明,赵珉,等. 在厚负性高分辨率电子束抗蚀剂HSQ上制作密集图形的方法. CN200810116381.4. 2012-03-21. |
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