激光测量核孔膜均匀度的方法

	激光测量核孔膜均匀度的方法
	莫丹; 袁平; 刘杰; 曹殿亮; 刘建德; 张胜霞
	2016-05-11
著作权人	中国科学院近代物理研究所
专利号	CN104729999B
国家	中国
文献子类	发明专利
英文摘要	本发明涉及一种核孔膜均匀度的测量装置及方法。这种方法可以应用到核探测技术以及核孔膜生产过程中在线检验和成品检验。一种激光测量核孔膜均匀度的装置，其主要特点在于包括有支架，支架包括有水平支架和竖直支架，在竖直支架的上端设有激光器，在竖直支架的中部设有二维平移台，其二维平移台的台面为透明板：在水平支架上设有光探测器；激光器与光探测器在一个中心线上。本发明的优点是：采用可调束斑大小激光可以精准探测所需要了解的位置点的信息，可以根据不同的扫描方式，来统计所关心的不同位置的信息。这种扫描的方式，可以通过计算机编程，自动的进行获取，从而迅速得到样品的均匀度信息。与其他方法相比，激光光源稳定，自动化程度高，测试更为精准。
公开日期	2016-05-11
申请日期	2015-03-20
状态	授权
内容类型	专利
源URL	[http://119.78.100.186/handle/113462/60622]
专题	中国科学院近代物理研究所
作者单位	中国科学院近代物理研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	莫丹,袁平,刘杰,等. 激光测量核孔膜均匀度的方法. CN104729999B. 2016-05-11.