Stable, high power, high efficiency picosecond ultraviolet generation at 355 nm in K 3 B 6 O 10 Br crystal | |
Z.Y. Hou ; L.R. Wang ; M.J. Xia ; D.X. Yan ; Q.L. Zhang ; L. Zhang ; L.J. Liu ; D.G. Xu ; D.X. Zhang ; X.Y. Wang ; R.K. Li ; C.T. Chen | |
刊名 | Optics Communications
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2018 | |
卷号 | 416页码:71–76 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/29039] ![]() |
专题 | 半导体研究所_全固态光源实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Z.Y. Hou ; L.R. Wang ; M.J. Xia ; D.X. Yan ; Q.L. Zhang ; L. Zhang ; L.J. Liu ; D.G. Xu ; D.X. Zhang ; X.Y. Wang ; R.K. Li ; C.T. Chen. Stable, high power, high efficiency picosecond ultraviolet generation at 355 nm in K 3 B 6 O 10 Br crystal[J]. Optics Communications,2018,416:71–76. |
APA | Z.Y. Hou ; L.R. Wang ; M.J. Xia ; D.X. Yan ; Q.L. Zhang ; L. Zhang ; L.J. Liu ; D.G. Xu ; D.X. Zhang ; X.Y. Wang ; R.K. Li ; C.T. Chen.(2018).Stable, high power, high efficiency picosecond ultraviolet generation at 355 nm in K 3 B 6 O 10 Br crystal.Optics Communications,416,71–76. |
MLA | Z.Y. Hou ; L.R. Wang ; M.J. Xia ; D.X. Yan ; Q.L. Zhang ; L. Zhang ; L.J. Liu ; D.G. Xu ; D.X. Zhang ; X.Y. Wang ; R.K. Li ; C.T. Chen."Stable, high power, high efficiency picosecond ultraviolet generation at 355 nm in K 3 B 6 O 10 Br crystal".Optics Communications 416(2018):71–76. |
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