X射线干涉光刻方法制备表面增强拉曼散射基底

	X射线干涉光刻方法制备表面增强拉曼散射基底
	杨树敏; 周晓娟; 王春鹏; 陶旭磊; 刘星; 吴衍青; 邰仁忠
刊名	Nuclear Techniques核技术
	2017
卷号	40 期号:5 页码:50101
关键词	X射线干涉光刻金属纳米阵列表面增强拉曼散射
ISSN号	0253-3219
其他题名	Fabrication of surface enhanced Raman scattering substrate by X-ray interference lithography
文献子类	Article
英文摘要	表面增强拉曼散射(Surface-enhanced Raman Scatting, SERS)是一种非常重要的化合物分析技术,在光谱分析、生物传感等领域有着广泛的应用。理想的SERS基底需要同时具有高灵敏度和高均一性,这就需要制备一种大面积并且周期小于100nm的金属纳米阵列。同步辐射X射线干涉光刻技术具有很高的光刻分辨能力和均匀性,可以制备高密度的金属纳米阵列。利用X射线干涉光刻方法制备了区域面积为320mum*440mum和周期为100nm的二维周期结构,同时保持了高复制性和优异的均匀性。金属纳米阵列作为表面增强拉曼散射基底时可以提供很好的灵敏度和重复性。对于R6G染料,最低探测极限可达10~(-9) mol·L~(-1)。在单片样品内的均匀性良好,相对标准偏差为6.72%。此外,表面拉曼增强基底能重复利用,可进一步降低成本。
WOS研究方向	Nuclear Science & Technology (provided by Clarivate Analytics)
语种	中文
CSCD记录号	CSCD:5981194
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/285339]
专题	高能物理研究所_实验物理中心
作者单位	中国科学院高能物理研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	杨树敏,周晓娟,王春鹏,等. X射线干涉光刻方法制备表面增强拉曼散射基底[J]. Nuclear Techniques核技术,2017,40(5):50101.
APA	杨树敏.,周晓娟.,王春鹏.,陶旭磊.,刘星.,...&邰仁忠.(2017).X射线干涉光刻方法制备表面增强拉曼散射基底.Nuclear Techniques核技术,40(5),50101.
MLA	杨树敏,et al."X射线干涉光刻方法制备表面增强拉曼散射基底".Nuclear Techniques核技术 40.5(2017):50101.