| Cu的腐蚀与缓蚀的光电化学研究 | |
| Xu Qunjie[1]; Zhu Luejun[2]; Qi Hang[3]; Cao Weimin[4]; Zhou Guoding[5] | |
| 刊名 | 金属学报
 |
| 2008 | |
| 卷号 | 44页码:1360-1365 |
| 关键词 | 光电化学 腐蚀 缓蚀剂 聚天冬氨酸 |
| ISSN号 | 0412-1961 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2349362 |
| 专题 | 上海大学 |
| 作者单位 | 1.[1]Shanghai Univ Elect Power, Dept Energy Source & Environm Engn, Shanghai 200090, Peoples R China. 2.[2]Shanghai Univ Elect Power, Dept Energy Source & Environm Engn, Shanghai 200090, Peoples R China. 3.Shanghai Univ, Coll Sci, Dept Chem, Shanghai 200444, Peoples R China. 4.[3]Shanghai Univ Elect Power, Dept Energy Source & Environm Engn, Shanghai 200090, Peoples R China. 5.[4]Shanghai Univ, Coll Sci, Dept Chem, Shanghai 200444, Peoples R China. 6.[5]Shanghai Univ Elect Power, Dept Energy Source & Environm Engn, Shanghai 200090, Peoples R China. |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Xu Qunjie[1],Zhu Luejun[2],Qi Hang[3],等. Cu的腐蚀与缓蚀的光电化学研究[J]. 金属学报,2008,44:1360-1365. |
| APA | Xu Qunjie[1],Zhu Luejun[2],Qi Hang[3],Cao Weimin[4],&Zhou Guoding[5].(2008).Cu的腐蚀与缓蚀的光电化学研究.金属学报,44,1360-1365. |
| MLA | Xu Qunjie[1],et al."Cu的腐蚀与缓蚀的光电化学研究".金属学报 44(2008):1360-1365. |
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