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	Effect of pH on hard disk substrate polishing in glycine-hydrogen peroxide system abrasive-free slurry
	Chen Sisi[1]; Lei Hong[2]; Chen Ruling[3]
	2013
会议名称	MICRO-NANO TECHNOLOGY XIV, PTS 1-4
会议日期	2012-11-04
关键词	abrasive free polishing (AFP) glycine hydrogen peroxide hard disk substrate
页码	691-696
URL标识	查看原文
内容类型	会议论文
URI标识	http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2290121
专题	上海大学
作者单位	1.[1]Shanghai Univ, Res Ctr Nanosci & Nanotechnol, Shanghai 200444, Peoples R China. 2.[2]Shanghai Univ, Res Ctr Nanosci & Nanotechnol, Shanghai 200444, Peoples R China. 3.[3]Shanghai Univ, Res Ctr Nanosci & Nanotechnol, Shanghai 200444, Peoples R China.
推荐引用方式 GB/T 7714	Chen Sisi[1],Lei Hong[2],Chen Ruling[3]. Effect of pH on hard disk substrate polishing in glycine-hydrogen peroxide system abrasive-free slurry[C]. 见:MICRO-NANO TECHNOLOGY XIV, PTS 1-4. 2012-11-04.

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