193nm氟化物减反射膜在DUV/VUV波段光学性能的时效性研究 | |
赵家[1]; 汪琳[2]; 张伟丽[3]; 易葵[4]; 邵建达[5] | |
2015 | |
会议名称 | 上海市激光学会2015年学术年会 |
会议日期 | 2015-12-01 |
关键词 | 氟化物 减反射膜 时效性 膜系设计 |
页码 | 2 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 会议论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2241324 |
专题 | 上海大学 |
作者单位 | 1.中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院强激光材料重点实验室 2.上海大学材料科学与工程学院电子信息材料系 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵家[1],汪琳[2],张伟丽[3],等. 193nm氟化物减反射膜在DUV/VUV波段光学性能的时效性研究[C]. 见:上海市激光学会2015年学术年会. 2015-12-01. |
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