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193nm氟化物减反射膜在DUV/VUV波段光学性能的时效性研究
赵家[1]; 汪琳[2]; 张伟丽[3]; 易葵[4]; 邵建达[5]
2015
会议名称上海市激光学会2015年学术年会
会议日期2015-12-01
关键词氟化物 减反射膜 时效性 膜系设计
页码2
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内容类型会议论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2241324
专题上海大学
作者单位1.中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院强激光材料重点实验室
2.上海大学材料科学与工程学院电子信息材料系
推荐引用方式
GB/T 7714
赵家[1],汪琳[2],张伟丽[3],等. 193nm氟化物减反射膜在DUV/VUV波段光学性能的时效性研究[C]. 见:上海市激光学会2015年学术年会. 2015-12-01.
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