NiTi形状记忆合金中Ni4Ti3共格沉淀相自催化生长效应的相场模拟 (EI收录SCI收录) | |
柯常波[1,2]; 曹姗姗[2]; 马骁[2]; 黄平[1]; 张新平[2] | |
刊名 | 《金属学报》 |
2013 | |
卷号 | 49页码:115-122 |
关键词 | NITI形状记忆合金 自催化效应 应力场 浓度场 相场法 |
URL标识 | 查看原文 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2220397 |
专题 | 华南理工大学 |
作者单位 | 1.[1]华南理工大学机械与汽车工程学院,广州510640 2.[2]华南理工大学材料与科学工程学院,广州510640 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 柯常波[1,2],曹姗姗[2],马骁[2],等. NiTi形状记忆合金中Ni4Ti3共格沉淀相自催化生长效应的相场模拟 (EI收录SCI收录)[J]. 《金属学报》,2013,49:115-122. |
APA | 柯常波[1,2],曹姗姗[2],马骁[2],黄平[1],&张新平[2].(2013).NiTi形状记忆合金中Ni4Ti3共格沉淀相自催化生长效应的相场模拟 (EI收录SCI收录).《金属学报》,49,115-122. |
MLA | 柯常波[1,2],et al."NiTi形状记忆合金中Ni4Ti3共格沉淀相自催化生长效应的相场模拟 (EI收录SCI收录)".《金属学报》 49(2013):115-122. |
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