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NiTi形状记忆合金中Ni4Ti3共格沉淀相自催化生长效应的相场模拟 (EI收录SCI收录)
柯常波[1,2]; 曹姗姗[2]; 马骁[2]; 黄平[1]; 张新平[2]
刊名《金属学报》
2013
卷号49页码:115-122
关键词NITI形状记忆合金 自催化效应 应力场 浓度场 相场法
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内容类型期刊论文
URI标识http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2220397
专题华南理工大学
作者单位1.[1]华南理工大学机械与汽车工程学院,广州510640
2.[2]华南理工大学材料与科学工程学院,广州510640
推荐引用方式
GB/T 7714
柯常波[1,2],曹姗姗[2],马骁[2],等. NiTi形状记忆合金中Ni4Ti3共格沉淀相自催化生长效应的相场模拟 (EI收录SCI收录)[J]. 《金属学报》,2013,49:115-122.
APA 柯常波[1,2],曹姗姗[2],马骁[2],黄平[1],&张新平[2].(2013).NiTi形状记忆合金中Ni4Ti3共格沉淀相自催化生长效应的相场模拟 (EI收录SCI收录).《金属学报》,49,115-122.
MLA 柯常波[1,2],et al."NiTi形状记忆合金中Ni4Ti3共格沉淀相自催化生长效应的相场模拟 (EI收录SCI收录)".《金属学报》 49(2013):115-122.
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