| 新型硅基抛光磨料的研究进展 | |
| 王丹[1]; 秦飞[2]; 刘卫丽[3]; 孔慧[4]; 宋志棠[5]; 施利毅[6] | |
| 刊名 | 应用化工
 |
| 2017 | |
| 卷号 | 46页码:1608-1612 |
| 关键词 | 二氧化硅 复合磨料 非球形 混合磨料 掺杂 化学机械抛光 |
| ISSN号 | 1671-3206 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/2186014 |
| 专题 | 上海大学 |
| 作者单位 | 1.[1]中国科学院 上海微系统与信息技术研究所,上海 200050 2.上海大学 理学院,上海 200444[2]上海大学 理学院,上海,200444[3]上海大学 理学院,上海,200444[4]上海大学 理学院,上海,200444[5]上海大学 理学院,上海,200444[6]上海大学 纳米科学与技术研究中心,上海,200444 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王丹[1],秦飞[2],刘卫丽[3],等. 新型硅基抛光磨料的研究进展[J]. 应用化工,2017,46:1608-1612. |
| APA | 王丹[1],秦飞[2],刘卫丽[3],孔慧[4],宋志棠[5],&施利毅[6].(2017).新型硅基抛光磨料的研究进展.应用化工,46,1608-1612. |
| MLA | 王丹[1],et al."新型硅基抛光磨料的研究进展".应用化工 46(2017):1608-1612. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论