δ-Bi2O3 thin films prepared by reactive sputtering:Fabrication and characterization | |
H.T. Fan ; S.S. Pan ; X.M. Teng ; C. Ye ; G.H. Li ; L.D. Zhang | |
刊名 | Thin Solid Films |
2006 | |
期号 | 513 |
合作状况 | 其它 |
学科主题 | 纳米材料与技术 |
收录类别 | SCI |
公开日期 | 2010-08-16 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.hfcas.ac.cn/handle/334002/3833] |
专题 | 合肥物质科学研究院_中科院固体物理研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | H.T. Fan,S.S. Pan,X.M. Teng,et al. δ-Bi2O3 thin films prepared by reactive sputtering:Fabrication and characterization[J]. Thin Solid Films,2006(513). |
APA | H.T. Fan,S.S. Pan,X.M. Teng,C. Ye,G.H. Li,&L.D. Zhang.(2006).δ-Bi2O3 thin films prepared by reactive sputtering:Fabrication and characterization.Thin Solid Films(513). |
MLA | H.T. Fan,et al."δ-Bi2O3 thin films prepared by reactive sputtering:Fabrication and characterization".Thin Solid Films .513(2006). |
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