高反射率周期性铁电多层膜形成机理研究

	高反射率周期性铁电多层膜形成机理研究
	高国龙
刊名	胡古今; 洪学鹍; 陈静; 褚君浩; 戴宁;
	2007
期号	1
公开日期	2011-08-18
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.127.1.142/handle/181331/1678]
专题	上海技术物理研究所_研究生
推荐引用方式 GB/T 7714	高国龙. 高反射率周期性铁电多层膜形成机理研究[J]. 胡古今; 洪学鹍; 陈静; 褚君浩; 戴宁;,2007(1).
APA	高国龙.(2007).高反射率周期性铁电多层膜形成机理研究.胡古今; 洪学鹍; 陈静; 褚君浩; 戴宁;(1).
MLA	高国龙."高反射率周期性铁电多层膜形成机理研究".胡古今; 洪学鹍; 陈静; 褚君浩; 戴宁; .1(2007).