| 一种用于高能离子注入的复合掩膜的去除方法 | |
| 1施长治 2 林春 | |
| 2015-01-21 | |
| 著作权人 | 中国科学院上海技术物理研究所 |
| 专利号 | 201510029323.8 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明 |
| 公开日期 | 2017-06-27 |
| 状态 | 授权 |
| 内容类型 | 专利 |
| 源URL | [http://202.127.2.71:8080/handle/181331/11662]  |
| 专题 | 上海技术物理研究所_上海技物所 |
| 作者单位 | 中国科学院上海技术物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 1施长治 2 林春. 一种用于高能离子注入的复合掩膜的去除方法. 201510029323.8. 2015-01-21. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论