溅射能量对WC/a-C:H薄膜结构与性能的影响

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	溅射能量对WC/a-C:H薄膜结构与性能的影响
	王立平; 薛群基; 王永欣; 刘翔; 孙尚琪
刊名	中国有色金属学报
	2018
卷号	28 期号:05 页码:955-963
关键词	溅射靶电流 Wc/a-c:H薄膜摩擦磨损
产权排序	昆明理工大学材料科学与工程学院;中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江省海洋材料与防护技术重点实验室;
英文摘要	为探究溅射能量对WC/a-C:H薄膜结构与性能的影响,并讨论WC掺杂对a-C:H薄膜的影响。通过非平衡磁控溅射+等离子体增强化学气相沉积法(UBMS+PACVD),以WC靶作为溅射靶,C_2H_2为反应气体,通过调制溅射靶电流,在316不锈钢基体上制备WC/a-C:H系列薄膜。用场发射电镜、透射电镜、X射线衍射仪、XPS、拉曼光谱等对薄膜的微观结构和成分进行表征,用划痕仪、纳米硬度仪测试了薄膜的力学性能,用多功能摩擦机对薄膜的摩擦学性能进行分析。结果表明:WC主要以β-WC_(1-x)纳米晶的形式均匀分布在非晶碳中,随着溅射靶电流的上升,薄膜中W含量和膜基结合力呈上升趋势,在11A时上升至21.9%(摩尔分数)和18.6 N,而I_D/I_G比值和硬度逐渐降低至0.55和11 GPa。溅射靶电流为4 A时,WC/a-C:H薄膜表现出较好的磨损性能,摩擦因数低至0.15,磨损率为5.38×10~(-7) mm~3/(N?m)。
公开日期	2018-12-04
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/16562]
专题	2018专题
推荐引用方式 GB/T 7714	王立平,薛群基,王永欣,等. 溅射能量对WC/a-C:H薄膜结构与性能的影响[J]. 中国有色金属学报,2018,28(05):955-963.
APA	王立平,薛群基,王永欣,刘翔,&孙尚琪.(2018).溅射能量对WC/a-C:H薄膜结构与性能的影响.中国有色金属学报,28(05),955-963.
MLA	王立平,et al."溅射能量对WC/a-C:H薄膜结构与性能的影响".中国有色金属学报 28.05(2018):955-963.