一种二维光学相控阵消栅瓣与相位调制方法
张文富; 孙笑晨; 章羚璇; 王国玺; 杜书剑
2018-11-06
著作权人中国科学院西安光学精密机械研究所
专利号CN201810349623.8
国家中国
文献子类发明专利
产权排序1
其他题名一种二维光学相控阵消栅瓣与相位调制方法
英文摘要本发明涉及一种二维光学相控阵消栅瓣与相位调制方法,解决现有片上二维光学相控阵偏转角不够大、分辨率不够高的问题。该方法包括以下步骤:1)将一维天线阵元的均匀间隔由相位加权法优化出一维非均匀阵列间隔;2)将步骤1)得到的阵元间隔用于二维阵列,通过转化算法对阵元出射光加上调制相位,同时调制每个阵元的相位;3)将得到的阵元间隔用于片上二维光学相控阵的制作,将得到的相位差用于电调,得到低栅瓣光学相控阵。
公开日期2018-11-06
申请日期2018-04-18
语种中文
状态申请中
内容类型专利
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/30947]  
专题其它单位_其它部门
作者单位中国科学院西安光学精密机械研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
张文富,孙笑晨,章羚璇,等. 一种二维光学相控阵消栅瓣与相位调制方法. CN201810349623.8. 2018-11-06.
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