题名 | 激光直写光刻技术研究 |
作者 | 李凤有 |
答辩日期 | 2002 |
文献子类 | 博士 |
授予单位 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
授予地点 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
导师 | 卢振武 |
关键词 | 衍射光学元件 激光直写 光刻 |
学位专业 | 光学 |
英文摘要 | 激光直写是衍射光学元件的一种先进制作技术,国内激光直写制作技术的水平远没有达到实际应用的要求。本文开展了直角坐标和极坐标激光直写光刻理论与工艺研究,激光直写制作的衍射光学元件己得到了实际应用,为进一步发展激光直写光刻技术奠定理论与实验基础。本文完善了激光直写光刻理论,分析了直写曝光中胶层内光场的分布,探讨了最佳曝光量的选择方案,利用ZEMAX软件进行光线追迹的结果和理论模拟十分相近,实验结果验证了理论模型的正确性,该理论模型对激光直写光刻技术研究具有重要指导意义。 本文完成了直角坐标激光直写光刻技术研究,开展了离焦激光直写光刻的工艺研究,制作了光栅和网格分划板,线宽误差控制在10%以内。首次使用激光直写光刻方法制作了200mm X 200mm金属网栅结构,制作精度很高,金属网栅的光电性能指标接近于理论设计值。本文在极坐标激光直写光刻技术研究中,解决了极坐标特有的关键技术,制作了同心环分划板,定位精度和线宽达到了设计要求。开展了球面激光直写光刻技术研究,分析了球面直写光刻工艺实验难点,提出了有效的解决办法,进行了初步的实验研究。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-03-21 |
页码 | 97 |
内容类型 | 学位论文 |
源URL | [http://159.226.165.120//handle/181722/1583] |
专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李凤有. 激光直写光刻技术研究[D]. 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所. 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所. 2002. |
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