| 低压、气动旋转衬底座XG2-1型MOCVD装置 | |
| 高鸿楷; 何益民; 徐瞬; 郭银其; 赛小锋 | |
| 2004 | |
| 文献子类 | 省部自然科学奖 |
| 奖励等级 | 省级三等奖 |
| 关键词 | Mocvd 气动旋转衬底座 |
| 学科主题 | 半导体材料 |
| 英文摘要 | MOCVD装置是当今国际上，用于生长半导体单晶薄膜的先进设备。它广泛应用于制备航天太阳能电池，半导体激光器，光电阴极，发光管，微电子器件和各种量子阱结构材料。该装置利用了自己的专利技术制作成低压、气动旋转衬底座反应室，使得该装置拥有自主知识产权。该装置填补了国内卧式MOCVD反应室衬底旋转技术的空白，总体水平达到了国际上90年代同类产品的先进水平。为我国MOCVD技术发展，特别是MOCVD装置的制造技术做出了重要贡献。 |
| 资助项目 | 瞬态光学技术国家重点实验室 |
| 语种 | 中文 |
| 内容类型 | 成果 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/18649]  |
| 专题 | 西安光学精密机械研究所_中国科学院西安光学精密机械研究所(2010年前) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 高鸿楷,何益民,徐瞬,等. 低压、气动旋转衬底座XG2-1型MOCVD装置. . 2004. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论