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采用热丝辅助MW-ECRCVD法制备高性能a-Si:H薄膜
张文理; 陈光华; 何斌; 朱秀红; 马占洁; 丁毅; 刘国汉; 郜志华; 宋雪梅; 邓金祥
2005-09-01
会议名称TFC'05全国薄膜技术学术研讨会
关键词MW-ECRCVD法 a-Si:H 热丝 氢化非晶硅 电池研究 平板显示器 光敏性 能量转化率 分解率 核心材料
页码1
中文摘要氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜是硅基薄膜太阳电池的核心材料,而且作为薄膜场效应晶体管在电子摄像,大面积平板显示器等领域的应用也有很大进展。高光敏性及高稳定型的a-Si∶H薄膜的制备,始终是硅基薄膜太阳电池研究和应用中的关键技术,受到各国相关领域的高度重视。我们采用热丝辅助的MW ECR-CVD系统制备氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜。MW ECR-CVD系统产生的等离子体具有能量转化率高,气体分解率高、激发态产物种类较多和基团浓度高
会议录TFC'05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集
语种中文
内容类型会议论文
源URL[http://202.201.7.4/handle/262010/107860]  
专题物理科学与技术学院_会议论文
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GB/T 7714
张文理,陈光华,何斌,等. 采用热丝辅助MW-ECRCVD法制备高性能a-Si:H薄膜[C]. 见:TFC'05全国薄膜技术学术研讨会.
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