真空热处理对TbDyFe薄膜结构和磁学性能的影响

	真空热处理对TbDyFe薄膜结构和磁学性能的影响
	魏玉鹏; 王姝; 张旭东; 李建功
刊名	真空科学与技术学报/Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Journal of Vacuum Science and Technology
	2009-05-15
卷号	29 期号:3 页码:241-246
关键词	TbDyFe薄膜真空热处理磁性结构 Annealing condition Annealing temperatures Annealing time Coercivity Easy magnetization directions Film planes In-plane Low magnetic fields Si (100) substrate Structure TbDyFe films Vacuum annealing
ISSN号	16727126
其他题名	Improvement of microstructures and magnetic property of TbDyFe films by vacuum annealing
通讯作者	Wei, Y.
中文摘要	采用磁控溅射制备TbDyFe非晶薄膜,系统研究了不同温度和时间真空热处理对薄膜结构与磁学性能的影响。当热处理温度高于450℃时,薄膜中有磁致伸缩的RFe2结晶相形成。热处理使Tb0.28Dy0.72Fe2薄膜的易磁化方向从垂直于膜面向平行于膜面转变,并显著提高膜面内饱和磁化强度。450℃真空热处理60min后Tb0.29Dy0.71Fe1.8薄膜饱和磁化强度较高、矫顽力低,更容易在低场下磁化,适于低场下作为磁致伸缩薄膜应用。
学科主题	712.1 Semiconducting Materials;714.2 Semiconductor Devices and Integrated Circuits;801.4 Physical Chemistry;951 Materials Science;931.3 Atomic and Molecular Physics;933.1.1 Crystal Lattice;933.2 Amorphous Solids;933 Solid State Physics;708.4 Magnetic Materials;704 Electric Components and Equipment;531.2 Metallography;537.1 Heat Treatment Processes;547.2 Rare Earth Metals;549.3 Nonferrous Metals and Alloys excluding Alkali and Alkaline Earth Metals;633 Vacuum Technology;701.2 Magnetism: Basic Concepts and Phenomena
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102780]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	魏玉鹏,王姝,张旭东,等. 真空热处理对TbDyFe薄膜结构和磁学性能的影响[J]. 真空科学与技术学报/Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Journal of Vacuum Science and Technology,2009,29(3):241-246.
APA	魏玉鹏,王姝,张旭东,&李建功.(2009).真空热处理对TbDyFe薄膜结构和磁学性能的影响.真空科学与技术学报/Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Journal of Vacuum Science and Technology,29(3),241-246.
MLA	魏玉鹏,et al."真空热处理对TbDyFe薄膜结构和磁学性能的影响".真空科学与技术学报/Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Journal of Vacuum Science and Technology 29.3(2009):241-246.