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铁电PLZT薄膜的最新研究进展
苗彬彬; 王君; 陈江涛; 闫鹏勋
刊名人工晶体学报/Rengong Jingti Xuebao/Journal of Synthetic Crystals
2006-06-30
卷号35期号:3页码:539-544
关键词铁电/介电薄膜 PLZT 光电特性
ISSN号1000985X
其他题名Latest research on ferroelectric Pb1-xLax (Zr1-yTiy)1-x/4O3 thin films
中文摘要锆钛酸铅镧(Pb1-xLax(Zr1-yTiy)1-x/4O3)铁电材料是一种具有优越铁电、介电、压电和热释电性能的材料,在微电子领域有着广泛的应用前景。本文概括介绍了Pb1-xLax(Zr1-yTiy)1-x/4O3薄膜的研究意义、基本结构、制备方法、研究现状和应用展望;并对现阶段薄膜研究过程中的一些问题做了简要叙述。
语种中文
内容类型期刊论文
源URL[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102596]  
专题物理科学与技术学院_期刊论文
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GB/T 7714
苗彬彬,王君,陈江涛,等. 铁电PLZT薄膜的最新研究进展[J]. 人工晶体学报/Rengong Jingti Xuebao/Journal of Synthetic Crystals,2006,35(3):539-544.
APA 苗彬彬,王君,陈江涛,&闫鹏勋.(2006).铁电PLZT薄膜的最新研究进展.人工晶体学报/Rengong Jingti Xuebao/Journal of Synthetic Crystals,35(3),539-544.
MLA 苗彬彬,et al."铁电PLZT薄膜的最新研究进展".人工晶体学报/Rengong Jingti Xuebao/Journal of Synthetic Crystals 35.3(2006):539-544.
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