氮离子注入金刚石薄膜场发射初始过程研究

	氮离子注入金刚石薄膜场发射初始过程研究
	邵乐喜; 刘小平; 谢二庆; 贺德衍; 陈光华
刊名	湛江师范学院学报(自然科学版)
	2000-06-25
期号	1 页码:3
关键词	场电子发射氮离子注入 CVD金刚石薄膜激活击穿
其他题名	氮离子注入金刚石薄膜场发射初始过程研究
中文摘要	研究了氮离子注入CVD金刚石薄膜的场电子发射行为 .实验表明 ,稳定发射的形成过程基本具有规律性的击穿、激活和稳定发射三阶段特征 ,并提出了一种修正的激活模型 ,解释了实验结果 ,讨论了发射机理 .
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102266]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	邵乐喜,刘小平,谢二庆,等. 氮离子注入金刚石薄膜场发射初始过程研究[J]. 湛江师范学院学报(自然科学版),2000(1):3.
APA	邵乐喜,刘小平,谢二庆,贺德衍,&陈光华.(2000).氮离子注入金刚石薄膜场发射初始过程研究.湛江师范学院学报(自然科学版)(1),3.
MLA	邵乐喜,et al."氮离子注入金刚石薄膜场发射初始过程研究".湛江师范学院学报(自然科学版) .1(2000):3.