溅射法制备Mn-Zn铁氧体薄膜的磁性与微结构

	溅射法制备Mn-Zn铁氧体薄膜的磁性与微结构
	张弘; 刘朝阳; 王兰喜; 贺德衍; 魏福林
刊名	功能材料与器件学报
	2010-04-25
期号	2 页码:114-118
关键词	薄膜 Mn-Zn铁氧体矫顽力
其他题名	溅射法制备Mn-Zn铁氧体薄膜的磁性与微结构
中文摘要	以交替真空溅射的方法使用成分分别为MnFe2O4与ZnFe2O4的双靶制备了成分变化的系列Mn1-xZnxFe2O4铁氧体薄膜,衬底为Si(100)。薄膜的成分通过控制不同靶的溅射时间来进行调整。沉积态的薄膜呈非晶结构,在真空炉中以适当的温度对薄膜进行退火之后能够得到多晶Mn-Zn铁氧体薄膜。组成成分为Mn0.5Zn0.5Fe2O4的薄膜呈现了相对最高的饱和磁化强度。同时还研究了制备条件对薄膜结构与磁性的影响,如溅射氧分压,退火真空度,退火温度及薄膜厚度等等。制备的薄膜相对于块状材料具有较高的矫顽力,进而讨论了应力对薄膜矫顽力的影响。
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/101466]
专题	物理科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	张弘,刘朝阳,王兰喜,等. 溅射法制备Mn-Zn铁氧体薄膜的磁性与微结构[J]. 功能材料与器件学报,2010(2):114-118.
APA	张弘,刘朝阳,王兰喜,贺德衍,&魏福林.(2010).溅射法制备Mn-Zn铁氧体薄膜的磁性与微结构.功能材料与器件学报(2),114-118.
MLA	张弘,et al."溅射法制备Mn-Zn铁氧体薄膜的磁性与微结构".功能材料与器件学报 .2(2010):114-118.