题名 | 离子束溅射制备Ta2O5/SiO2薄膜的应力特性研究 |
作者 | 余琪1,2 |
学位类别 | 硕士 |
答辩日期 | 2017-05 |
授予单位 | 中国科学院研究生院 |
授予地点 | 北京 |
导师 | 官春林 |
关键词 | 薄膜应力,离子束溅射技术,光学薄膜,有限元分析 |
学科主题 | 光学 |
内容类型 | 学位论文 |
源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/8136] |
专题 | 光电技术研究所_光电技术研究所博硕士论文 |
作者单位 | 1.中国科学院光电技术研究所 2.中国科学院大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 余琪. 离子束溅射制备Ta2O5/SiO2薄膜的应力特性研究[D]. 北京. 中国科学院研究生院. 2017. |
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