题名离子束溅射制备Ta2O5/SiO2薄膜的应力特性研究
作者余琪1,2
学位类别硕士
答辩日期2017-05
授予单位中国科学院研究生院
授予地点北京
导师官春林
关键词薄膜应力,离子束溅射技术,光学薄膜,有限元分析
学科主题光学
内容类型学位论文
源URL[http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/8136]  
专题光电技术研究所_光电技术研究所博硕士论文
作者单位1.中国科学院光电技术研究所
2.中国科学院大学
推荐引用方式
GB/T 7714
余琪. 离子束溅射制备Ta2O5/SiO2薄膜的应力特性研究[D]. 北京. 中国科学院研究生院. 2017.
个性服务
查看访问统计
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。


©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by CSpace