| 题名 | 基于约束化学刻蚀的新型电化学微加工方法及其应用; Novel Electrochemical microfabrication Methods and Applications Based on Confined Chemical Etching |
| 作者 | 张杰 |
| 答辩日期 | 2016-03-24 ; 2015-07-24 |
| 导师 | 田昭武 ; 詹东平 |
| 关键词 | 约束刻蚀剂层技术 屈曲 电化学屈曲微加工技术 复杂三维多级结构 纳米压印 金属腐蚀刻蚀 电化学纳米压印技术 Confined etchant layer technique Buckling Electrochemical buckling microfabrication Complex 3D hierarchical structures Nanoimprint lithography Metal assisted chemical etching Electrochemical nanoimprint lithography |
| 英文摘要 | 微/纳米技术正逐步广泛深入地渗透于材料、信息、能源、微电子、环境、生物、医学和国防安全等众多领域。为了将微/纳米科技领域的这些革命性产品/系统概念转化为规模化的实际应用，微/纳米制造技术是不可或缺的技术桥梁。发展高精度、低成本的批量化微/纳制造技术具有十分重大的战略意义。 虽然目前已经发展出了许多批量化的微/纳米制造技术，但是在半导体表面批量加工复杂三维多级结构仍然存在着巨大挑战。约束刻蚀剂层技术(CELT)是由田昭武院士提出的具有完全国内知识产权的电化学微/纳加工技术。CELT不仅能批量复制加工复杂三维微/纳结构，而且加工材料可以是导体、半导体或绝缘体。因而相比其他微/纳制造技术具有十分突...; Micro-nanotechnology has been gradually and widely applied in many fields such as materials, communication, energy, microelectronics, environment, biology, medicine, defense security and so on. Micro-nanomanufacturing technology is an indispensable bridge to translate the revolutionary products and conceptions in micro-nanotechnology into large-scale practical use. Developing high resolution, mass...; 学位：理学博士; 院系专业：化学化工学院_物理化学; 学号：20520120153533 |
| 语种 | zh_CN |
| 出处 | http://210.34.4.13:8080/lunwen/detail.asp?serial=52731 |
| 内容类型 | 学位论文 |
| 源URL | [http://dspace.xmu.edu.cn/handle/2288/130165]  |
| 专题 | 化学化工－学位论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张杰. 基于约束化学刻蚀的新型电化学微加工方法及其应用, Novel Electrochemical microfabrication Methods and Applications Based on Confined Chemical Etching[D]. 2016, 2015. |
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