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题名	微系统中的电化学微加工技术——约束刻蚀剂层技术研究; On the electrochemical micromachining in mems——confined etchant layer technique
作者	孙建军
答辩日期	2008 ; 2001
导师	田昭武
关键词	微系统 电化学微加工 约束刻蚀剂层技术 Microsystem Microelectromechanical System MEMS Electrochemical Micromachining Confined Etchant Layer Technique CELT
英文摘要	微系统技术将成为21世纪人类社会发展的关键技术之一。建立在平面硅加工工艺基础上的体硅工艺以及基于电化学方法上的LIGA等加工技术，已成为加工简单立体微结构比较成熟的技术，在微系统的发展中起到了重要的作用。为了满足制作结构更为复杂、功能更为强大的微系统的需要，人们一直在寻求加工复杂三维立体微结构的加工技术。1992年，田昭武等提出了复杂三维超微图形加工技术—约束刻蚀剂层技术（CELT)。它的基本思想是约束刻蚀，具有距离敏感性及控制刻蚀保留量等特点，用（光）电化学方法在微米及纳米尺度上的实现三维微图形的复制加工。本文主要包括以下几方面内容：1．回顾了微系统的发展历史，论述了微系统与电化学之间的关系...; The micromachining of materials is considered to be a key technology inmicrosystems or microelectromechanical systems (MEMS). So far thesurface micromachining technology by lithography has been successfullyused for the fabrication of microelectronic devices in batch process. Theinformation of the 2-dimensional (2-D) patterns in the masks can betransferred onto the workpiece as 2-D thin film struct...; 学位：博士后; 院系专业：化学化工学院化学系_马克思主义哲学; 学号：BHBG00052
语种	zh_CN
出处	http://210.34.4.13:8080/lunwen/detail.asp?serial=14021
内容类型	学位论文
源URL	[http://dspace.xmu.edu.cn/handle/2288/34424]
专题	化学化工－学位论文
推荐引用方式 GB/T 7714	孙建军. 微系统中的电化学微加工技术——约束刻蚀剂层技术研究, On the electrochemical micromachining in mems——confined etchant layer technique[D]. 2008, 2001.

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