硅片表面球形粒子散射研究

	硅片表面球形粒子散射研究; Calculation of light scattering from a spherical particle on a silicon wafer
	曹楷 ; 程兆谷 ; 高海军
刊名	光子学报
	2006
卷号	35 期号:4 页码:517
关键词	硅片散射米氏理论杨氏模型微分散射截面
ISSN号	1004-4213
其他题名	Calculation of light scattering from a spherical particle on a silicon wafer
中文摘要	为求解硅片表面微小粒子在任意线偏振平面入射光照射下的散射光光强分布，选择了基于Mie散射的杨氏模型为依据，推导了该模型下散射光强空间分布的计算方法，并给出了0．54／μm球形粒子在垂直、倾斜入射下光强空间分布的模拟计算结果，以及入射平面第一象限内散射光强与国外已发表实验结果的比较．
分类号	TN247
收录类别	EI
语种	中文
公开日期	2009-09-24 ; 2010-10-12
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/6241]
专题	上海光学精密机械研究所_精密光电测控研究与发展中心
推荐引用方式 GB/T 7714	曹楷,程兆谷,高海军. 硅片表面球形粒子散射研究, Calculation of light scattering from a spherical particle on a silicon wafer[J]. 光子学报,2006,35(4):517, 520.
APA	曹楷,程兆谷,&高海军.(2006).硅片表面球形粒子散射研究.光子学报,35(4),517.
MLA	曹楷,et al."硅片表面球形粒子散射研究".光子学报 35.4(2006):517.