新型磁存储介质L10有序FePt薄膜研究综述

CORC > 上海光学精密机械研究所 > 中国科学院上海光学精密机械研究所 > 高密度光存储技术实验室

	新型磁存储介质L10有序FePt薄膜研究综述; Research Progress in the New Magnetic Recording Medium L10 Ordered FePt Films
	王现英 ; 方铭 ; 李青会 ; 沈德芳 ; 干福熹
刊名	材料导报
	2005
卷号	19 期号:6 页码:91
关键词	Pt薄膜磁存储介质研究综述 Fe 粒子间相互作用饱和磁化强度制备工艺条件易磁化轴合金薄膜超高密度研究结果详细介绍矫顽力有序化
ISSN号	1005-023X
其他题名	Research Progress in the New Magnetic Recording Medium L10 Ordered FePt Films
中文摘要	L10有序FePt合金薄膜有大的各向异性能、矫顽力和饱和磁化强度，而且根据制备工艺条件的不同，其易磁化轴可以平行或垂直于膜面，因此极有可能成为下一代超高密度磁存储的介质，近年来引起了广泛的关注，详细介绍了FePt薄膜近年来的研究结果，分析了其大矫顽力的机制、降低有序化温度、控制易磁化轴取向、降低粒子间相互作用的方法等对磁存储至关重要的问题，并对其在磁存储中的应用前景作了分析。
学科主题	光存储
分类号	TP333.2;TN215
收录类别	0
语种	中文
公开日期	2009-09-22 ; 2010-10-12
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/3871]
专题	上海光学精密机械研究所_高密度光存储技术实验室
推荐引用方式 GB/T 7714	王现英,方铭,李青会,等. 新型磁存储介质L10有序FePt薄膜研究综述, Research Progress in the New Magnetic Recording Medium L10 Ordered FePt Films[J]. 材料导报,2005,19(6):91, 94.
APA	王现英,方铭,李青会,沈德芳,&干福熹.(2005).新型磁存储介质L10有序FePt薄膜研究综述.材料导报,19(6),91.
MLA	王现英,et al."新型磁存储介质L10有序FePt薄膜研究综述".材料导报 19.6(2005):91.