| 题名 | 平板偏振膜的制备与性能研究 |
| 作者 | 毕军 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 2006 |
| 授予单位 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 导师 | 易葵 |
| 关键词 | 平板偏振膜 电子束蒸发 离子束溅射 膜厚均匀性 激光损伤阈值 |
| 中文摘要 | 平板偏振膜作为强激光系统中重要的光隔离和光开关元件，其性能高低对整个激光系统的性能和稳定性有着至关重要的影响。为了使激光系统具有尽可能高的效率和尽可能好的光学质量，应用于该系统中的平板偏振膜必须满足以下要求：尽可能高的P偏振光透过率和尽可能低的S偏振光透过率；足够高的消光比；尽可能高的抗激光强度。 本文分析了平板偏振膜的设计原理和设计思路，并设计出性能稳定、可控性强的平板偏振膜膜系。分别利用电子束蒸发和离子束溅射工艺对所设计的平板偏振膜进行了制备，重点对制备过程中膜厚均匀性进行了分析和修正。分析了平板偏振膜光谱性能的测量原理，并对制备的样品进行了光谱性能和应力测量。最后对制备的平板偏振膜进行了激光损伤阈值的测试与分析。 对于电子束蒸发制备的平板偏振膜，1053nm处P偏振光透射率大于98％，S偏振光透射率小于0.2％，消光比大于400:1，带宽为20nm左右。P偏振光激光损伤阈值达到17.2J/cm2，表现为界面吸收引起的平底坑状损伤和缺陷引起的小孔洞状损伤；S偏振光激光损伤阈值达到19.6J/cm2，表现为外层较强的驻波场和界面吸收引起的平底坑状损伤。 对于离子束溅射制备的平板偏振膜，1064nm处P偏振光的透射率大于98％，S偏振光的透射率小于0.22％，消光比大于400:1，带宽为10nm左右。P偏振光的损伤阈值为13.2J/cm2，表现为缺陷引起的小孔洞状损伤。 |
| 语种 | 中文 |
| 内容类型 | 学位论文 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/16620]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_学位论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 毕军. 平板偏振膜的制备与性能研究[D]. 中国科学院上海光学精密机械研究所. 2006. |
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