气囊抛光过程的运动精度控制

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	气囊抛光过程的运动精度控制
	王飞; 张健; 彭利荣; 王高文; 隋永新
刊名	光学精密工程
	2015-08-15
期号	08 页码:2220-2228
关键词	光学加工气囊抛光运动精度球面抛光平面抛光
中文摘要	针对用于球面、非球面光学元件超精密光学加工的气囊抛光技术,提出了一套控制抛光过程中气囊运动精度的方法。该方法通过控制加工单元的温度,保证抛光过程中设备运动精度达到50μm;使用坐标传递法,使检测数据二维方向对准不确定度达到0.30~0.70mm。另外,基于磨头去除量估计与反馈修正法,提高精抛过程面形误差收敛效率。最后,通过磨头探测校准法,将磨头与加工工件法向位置精度提高至10μm。实际抛光实验显示:使用运动精度控制法在280mm口径的平面精密抛光中获得的面形加工精度为0.8nm(RMS),在160mm口径的凹球面精密抛光中获得的面形加工结果为1.1nm(RMS),实现了超高精度面形修正的目的,为超高精度球面、非球面光学元件加工提供了一套行之有效的方法。该方法同样适用于其他接触式小磨头数控抛光方法。
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/54042]
专题	长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式 GB/T 7714	王飞,张健,彭利荣,等. 气囊抛光过程的运动精度控制[J]. 光学精密工程,2015(08):2220-2228.
APA	王飞,张健,彭利荣,王高文,&隋永新.(2015).气囊抛光过程的运动精度控制.光学精密工程(08),2220-2228.
MLA	王飞,et al."气囊抛光过程的运动精度控制".光学精密工程 .08(2015):2220-2228.