横向外延GaN结晶质量的同步辐射研究 | |
王玉田 | |
刊名 | 核技术 |
2002 | |
卷号 | 25期号:10页码:770-774 |
中文摘要 | 采用同步辐射X光衍射技术研究了α-Al_2O_3(0001)衬底上横向外延GaN的结构特征。发现横向生长区的GaN(0001)晶面与窗口区的GaN(0001)晶面在垂直掩模方向上存在取向差。ω/2θ联动扫描发现横向生长区的GaN的衍射峰半高宽约为窗口区GaN的一半,这表明横向外延生长技术在降低GaN穿透位错密度的同时,还能大幅度提高GaN的晶粒尺寸。 |
英文摘要 | 采用同步辐射X光衍射技术研究了α-Al_2O_3(0001)衬底上横向外延GaN的结构特征。发现横向生长区的GaN(0001)晶面与窗口区的GaN(0001)晶面在垂直掩模方向上存在取向差。ω/2θ联动扫描发现横向生长区的GaN的衍射峰半高宽约为窗口区GaN的一半,这表明横向外延生长技术在降低GaN穿透位错密度的同时,还能大幅度提高GaN的晶粒尺寸。; 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:07:57导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:07:57Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5046.pdf: 370160 bytes, checksum: a858ff21d5fcdf258669dc654f3d3304 (MD5) Previous issue date: 2002; 中国科学院半导体研究所;中科院高能物理所 |
学科主题 | 光电子学 |
收录类别 | CSCD |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-11-23 ; 2011-04-29 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/17999] |
专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王玉田. 横向外延GaN结晶质量的同步辐射研究[J]. 核技术,2002,25(10):770-774. |
APA | 王玉田.(2002).横向外延GaN结晶质量的同步辐射研究.核技术,25(10),770-774. |
MLA | 王玉田."横向外延GaN结晶质量的同步辐射研究".核技术 25.10(2002):770-774. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论