光电经纬仪光学系统变形测试方法及系统

	光电经纬仪光学系统变形测试方法及系统
	赵怀学; 周艳; 田留德; 赵建科; 薛勋; 潘亮; 胡丹丹; 刘艺宁; 张洁; 曹昆
	2018-09-20
著作权人	中国科学院西安光学精密机械研究所
专利号	CN201811100735.6
国家	中国
文献子类	发明专利
产权排序	1
英文摘要	本发明涉及光学系统变形量测试领域，具体涉及一种光电经纬仪光学系统变形测试方法及系统。系统仅由目标模拟器及夹持机构组成，测试时，将目标模拟器通过夹持机构固定在待测光电经纬仪上，每调整一次光电经纬仪的俯仰角度，记录一次目标脱靶量，最后通过最小二乘法拟合光电经纬仪指向精度系统误差修正曲线，旨在实现光电经纬仪在不同俯仰角下，光学系统方位和俯仰方向变形量的连续采样和高精度测量，提高光电经纬仪指向精度。
公开日期	2019-01-11
申请日期	2018-09-20
语种	中文
状态	申请中
内容类型	专利
源URL	[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/31779]
专题	西安光学精密机械研究所_检测技术研究中心
作者单位	中国科学院西安光学精密机械研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	赵怀学,周艳,田留德,等. 光电经纬仪光学系统变形测试方法及系统. CN201811100735.6. 2018-09-20.